欢迎访问宝鸡鹏远有色金属有限公司网站!

今天是:

您的位置:

首页 >> 新闻资讯 >> 公司新闻


PVD镀膜技术的应用领域

[ 信息发布:本站 | 发布时间:2023-02-07 | 浏览:5293次 ]

随着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜室内外装饰件架、五金箱包、手机壳、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。在生活中,我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。

钛合金PVD镀膜 因为钛材的广泛应用也逐渐成为PVD镀膜领域的常规材料,和不锈钢对比,钛合金PVD镀膜的难点并不在镀膜的本身,而是要结合退镀和返修综合评估。不良品退镀的过程是一个去膜层的化学反应过程,因为钛基材的产品价格较高,退镀的工艺和去膜层过程的化学反应精度不是关键环节。管控方面首先要考虑的就是钛合金PVD镀膜时的工艺设计。

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MT-CVD(中温化学气相沉积)等新技术,各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。多弧镀的不足之处是,在用传统的DC电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3 um时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能地发挥它们各自的优越性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,最后再利用多弧镀达到最终稳定的表面涂层颜色的新方法。